欧洲对华盛顿芯片战说不

背景

美国近期在半导体领域对中国的出口管制持续收紧，试图通过立法手段进一步切断中国获取先进芯片制造设备的路径。在此背景下，荷兰贸易大臣 Sjoerd Sjoerdsma 本周前往华盛顿，与美国商务部长 Howard Lutnick 以及国会成员举行会晤。此次访问的核心目的，是明确反对即将审议的《MATCH 法案》（MATCH Act）。该法案旨在禁止中国芯片制造商获取西方半导体设备，而这一举措将对全球光刻机巨头 ASML 造成尤为沉重的打击。

ASML 总部位于荷兰，不仅是欧洲市值最高的公司，也是全球唯一能够生产用于制造尖端 AI 芯片的复杂光刻机（lithography machines）的企业。其在全球半导体供应链中占据着不可替代的战略地位。

核心内容

荷兰贸易大臣 Sjoerd Sjoerdsma 在与美国官员会面后向 Bloomberg 表示：“非常罕见的是，我此次前来是为了向国会全面阐述我们的担忧。”他进一步强调，“对荷兰而言，局势的利害关系可能非常高。”

数据层面，中国占据了 ASML 净系统销售额的 19%。然而，《MATCH 法案》的管制范围将远超现有的出口控制措施。除了长期以来禁止向中国出口最先进极紫外（EUV）光刻机外，该法案还将限制措施延伸至 ASML 的深紫外浸没式（deep ultraviolet immersion）光刻机。

正如 ASML CEO Christophe Fouquet 在 5 月接受 TechCrunch 采访时所指出的，目前中国能够购买的仅是较老一代的深紫外光刻设备——这些设备大约十年前开始发货。而《MATCH 法案》若通过，将把这类原本仍在合法交易范围内的设备也列入禁售名单。

该法案于今年 4 月提出，目前尚未在众议院或参议院进行全面投票。Bloomberg 指出，该法案很可能需要被合并到一个更大的立法包中才能得以通过。

关键要点

• 立法目标激进：《MATCH 法案》旨在彻底阻断中国芯片制造商获取西方半导体设备的渠道，其管制力度比现有行政命令更为严厉。
• 打击对象明确：法案不仅维持对 EUV 设备的禁令，还拟将 ASML 的深紫外浸没式光刻机纳入禁运范围，这将直接切断 ASML 在中国的大部分现有业务。
• 荷兰强烈反对：作为 ASML 的母国，荷兰政府通过贸易大臣亲自赴华盛顿游说，明确表达对法案的反对态度，并警告其对荷兰经济和高科技产业构成的巨大风险。
• ASML 的战略困境：ASML 是全球唯一能提供尖端 AI 芯片制造设备的厂商，其市值地位及供应链关键性使其成为美荷两国博弈的焦点。中国占其销售额近两成，禁令将对其营收造成实质性冲击。
• 立法进程未定：尽管法案已提出，但尚未进入最终投票阶段。其通过的可能性取决于是否能融入其他更大的立法议程中。

意义与影响

此次事件标志着美国对华科技遏制策略从“行政管制”向“立法固化”的转变，同时也凸显了全球半导体供应链中地缘政治与经济利益的复杂纠葛。

首先，对于 ASML 及荷兰经济 而言，这是一次严峻的挑战。作为全球光刻技术的垄断者，ASML 高度依赖中国市场带来的营收以支撑其高昂的研发投入。《MATCH 法案》若通过，不仅意味着失去 19% 的销售额，更可能引发长期的市场萎缩和技术迭代受阻。荷兰政府的高调反对，反映了其试图在维持跨大西洋盟友关系与保护本国核心产业利益之间寻求平衡的努力。

其次，对于 中国半导体产业 而言，这意味着“成熟制程”设备的获取也将面临更大不确定性。此前，中国尚可依赖进口上一代深紫外设备进行成熟制程芯片的生产。一旦该路径被立法堵死，中国将不得不加速推进国产光刻机及其他半导体设备的研发与替代进程，尽管这在短期内将面临巨大的技术瓶颈。

最后，从 全球供应链 角度看，这一博弈加剧了半导体行业的碎片化风险。美国试图通过立法构建一个完全排除中国的“西方半导体联盟”，但这可能迫使全球供应链分裂为两个平行体系，增加全球科技企业的合规成本与运营风险，并可能延缓全球 AI 芯片等前沿技术的普及速度。